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美国正式推出EDA禁令,中国半导体将走向何方?

本文由用户 却输给了时间 发表于 2022年8月15日 龙8导航平台      参与:5人 我来说两句
  

8月12日,美国商务部工业和安全局(BIS)发布了一项临时最终规则(Interim final rule),作为《商业管制清单》(CCL)和《出口管理条例》(EAR)的相应部分,以实现对四个方面的控制,分别为两种超宽带隙半导体衬底——氧化镓和金刚石,GAAFE结构集成电路所必需的电子计算机辅助设计软件EDA(ECAD),用于生产和开发燃气涡轮发动机部件或系统的压力增益燃烧 (PGC) 技术。


临时最终规则是由联邦机构发布的规则,在发布后生效,无需首先就规则的实质内容征求公众意见,一般在紧急情况和其他需要时使用,可以帮助加快监管流程,以便能快速实施有约束力的监管要求,最终由法院来确定该临时最终规则是否合理,不利的裁决可以使相关机构重启监管程序。


虽然这次没有点名中国,但就美国在半导体领域的禁令而言,我国成为首要目标这件事是毋庸置疑的。


815日,该规则正式生效,意味着美国在半导体领域控制的进一步加码。




不过,关于EDA的禁令将延迟60天生效,具体生效日期为2022年10月14日,其中有30天是意见征询期。目前,美国BIS正在征求公众意见和行业意见,以确定哪些EDA特性尤其适合设计GAAFET,以便进行进一步管控。


EDA(Electronic Design Automation,电子设计自动化)是集成电路设计的关键软件,一度被称为“半导体皇冠上的明珠”,可用于辅助完成超大规模集成电路芯片的设计, 制造,封装,测试等流程,几乎涉及了集成电路的各个方面,由美国EDA三巨头Cadence,Synopsys(新思科技),Siemens(西门子)等公司构建,这三家公司在我国EDA市场的占有率近8成。


美国的新规则限制了用于GAAFET架构集成电路所必需的EDA软件,意味着限制了高端芯片的设计。


GAAFET(Gate-All-Around FET,全环绕栅极晶体管)被广泛认为是鳍式场效应晶体管(FinFET)的接任者,在过去的十余年时间里,FinFET一直是半导体器件的主流结构。今年6月,三星宣布率先量产了基于GAAFET技术的3nm工艺,台积电目前仍未导入。


美商务部表示,GAAFET是芯片制程突破3nm及以下的关键技术节点,负责出口管理的商务助理部长Thea D. Rozman Kendler称,“我们正在通过多边制度实施控制,保护规则中确定的四种技术免受恶意使用,这项规则表明,我们将致力于同我们的国际伙伴一起实施出口管制”。


可见,美国已经在半导体先进制程上设好了路障,预先拦截其他国家可能实现的半导体技术突破,主要是将中国挤出下一代半导体竞争。



其实早在本月初,就有消息人士透露,美商务部将发布新规则限制对华出口EDA软件,如今,随着美国芯片法案的落地以及一系列半导体禁令的展开,EDA禁令也被正式提出。


目前,我国的芯片厂商们主要停留在5nm和7nm的制程关卡,到2nm和3nm制程还有段距离,可能对这项禁令的反应不会特别明显,但限制EDA工具带来的潜在威胁仍不容忽视,关系到中国半导体产业的未来。



这就让人不得不把目光聚焦到EDA国产化的层面上来。


赛迪智库的数据显示,2018~2020年我国本土EDA软件的营收份额从6%提升到了11%,取得了一定程度的进步,但面对美国EDA三巨头在我国市场78%的份额,还是相去甚远。


而且,国内相关厂商主要分散在细分领域耕耘,无法覆盖全EDA产业链,而且以点工具为产品的企业居多,距离工业化仍有一段路要走,这样一来,从建立全流程生态到实现3nm及以下制程工艺的突破,对每一家企业来讲,都需要一定的时间。


不过,即便任重道远,也还是要向前行进的,毕竟,这场半导体之战,已不容人后退。


只是不知道,发展EDA和制造光刻机,哪个会更容易些。

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